据科技日报10月25日报道，近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。
相关论文近日刊发于《自然·通讯》。为破解难题，研究团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域。研究人员最终合成出一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”，一举克服了传统技术无法原位、三维、高分辨率观测的三大痛点。
银河证券指出，光刻胶主要用于微电子领域的精细线路图形加工，近年来，光刻胶成为了决定半导体芯片制程水平的关键材料。高端半导体光刻胶的核心技术主要掌握在日、美等国际厂商手中，且市场集中度较高。我国起步较晚，虽然目前在中低端的KrF光刻胶和i线光刻胶领域实现了较高的国产化率，但是在中高端的ArF光刻胶、EUV光刻胶领域仍亟待突破。
根据弗若斯特沙利文市场研究，中国半导体光刻胶市场规模从2019年27.8亿元增长至2023年64.2亿元，年复合增长率23.3%，预计2028年境内半导体光刻胶市场规模将达到150.3亿元，年复合增长率18.5%，高于全球半导体光刻胶市场规模增速。
公司方面，据上市公司互动平台表示，
泰和科技：公司在2025湾区半导体产业生态博览会主要展示高纯聚合物类分散剂、高纯有机无机酸类、高纯溶剂类、光刻胶材料类的电子化学品。
容大感光：公司珠海一期项目主要建设内容为年产1.20亿平方米感光干膜光刻胶生产线，以及年产1.53万吨显示用光刻胶、半导体光刻胶及配套化学品生产线。
*免责声明：文章内容仅供参考，不构成投资建议
*风险提示：股市有风险，入市需谨慎
本资讯中的内容来自持牌证券机构，意见仅供参考，并不构成对所述证券买卖做出保证。投资者不应将本资讯作为投资决策的唯一参考因素。亦不应以本资讯取代自己的判断。
本文内容和观点不代表牛策略APP平台观点，请独立判断和决策。在任何情况下，牛策略APP不对任何人因使用本平台中的内容所引致的任何损失负任何责任。
暂无评论内容